Plasma mediated ashing processes

플라즈마 매개 애싱 방법

Abstract

기판으로부터 포토레지스트, 폴리머 및/또는 잔류물들을 제거하기 위한 플라즈마 애싱 방법은, 상기 포토레지스트, 폴리머 및/또는 잔류물들을 포함하는 상기 기판을 반응 챔버속에 배치하는 단계; 산소 가스 (O 2 ) 및/또는 산소 함유 가스를 포함하는 가스 혼합물로부터 플라즈마를 발생시키는 단계; 상기 플라즈마에서 고속 확산 종들을 억제 및/또는 감소시키는 단계; 및 상기 기판을 상기 플라즈마에 노출시켜 상기 기판으로부터 상기 포토레지스트, 폴리머 및/또는 잔류물들을 선택적으로 제거하는 단계를 포함하고, 상기 플라즈마는 실질적으로 고속 확산 종을 함유하지 않는다.

Claims

Description

Topics

Download Full PDF Version (Non-Commercial Use)

Patent Citations (0)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle

NO-Patent Citations (0)

    Title

Cited By (0)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle